O revestimento por pulverização catódica Magnetron é um novo método físico de revestimento por vapor, em comparação com o método anterior de revestimento por evaporação, suas vantagens em muitos aspectos são bastante notáveis.Como uma tecnologia madura, a pulverização catódica por magnetron tem sido aplicada em muitos campos.
Princípio de pulverização catódica do magnetron:
Um campo magnético ortogonal e um campo elétrico são adicionados entre o pólo alvo pulverizado (cátodo) e o ânodo, e o gás inerte necessário (geralmente gás Ar) é preenchido na câmara de alto vácuo.O ímã permanente forma um campo magnético de 250-350 gaus na superfície do material alvo, e o campo eletromagnético ortogonal é composto pelo campo elétrico de alta tensão.Sob o efeito do campo elétrico, a ionização do gás Ar em íons positivos e elétrons, tem como alvo e tem certa pressão negativa, do alvo do pólo pelo efeito do campo magnético e o aumento da probabilidade de ionização do gás de trabalho, forma um plasma de alta densidade próximo ao cátodo, íon Ar sob a ação da força de Lorentz, acelera para voar até a superfície do alvo, bombardeando a superfície do alvo em alta velocidade. Os átomos pulverizados no alvo seguem o princípio da conversão de momento e voam para longe da superfície do alvo com alta cinética energia para o filme de deposição de substrato.
A pulverização catódica por magnetron é geralmente dividida em dois tipos: pulverização catódica DC e pulverização catódica RF.O princípio do equipamento de pulverização catódica DC é simples e a taxa é rápida ao pulverizar metal.O uso de pulverização catódica de RF é mais extenso, além da pulverização catódica de materiais condutores, mas também da pulverização catódica de materiais não condutores, mas também da preparação de pulverização catódica reativa de óxidos, nitretos e carbonetos e outros materiais compostos.Se a frequência de RF aumentar, torna-se pulverização catódica de plasma de microondas.Atualmente, a pulverização catódica de plasma por micro-ondas do tipo ressonância cíclotron eletrônica (ECR) é comumente usada.
Material alvo do revestimento de pulverização catódica Magnetron:
Material alvo de pulverização catódica de metal, material de revestimento de pulverização catódica de liga de revestimento, material de revestimento de pulverização catódica cerâmica, materiais alvo de pulverização catódica de cerâmica de boreto, material alvo de pulverização catódica de cerâmica de carboneto, material alvo de pulverização catódica de cerâmica de flúor, materiais alvo de pulverização catódica de cerâmica de nitreto, alvo de cerâmica de óxido, material alvo de pulverização catódica de cerâmica de seleneto, materiais alvo de pulverização catódica de cerâmica de silicieto, material alvo de pulverização catódica de cerâmica de sulfeto, alvo de pulverização catódica de cerâmica de telureto, outro alvo cerâmico, alvo cerâmico de óxido de silício dopado com cromo (CR-SiO), alvo de fosfeto de índio (InP), alvo de arsenieto de chumbo (PbAs), arsenieto de índio alvo (InAs).
Horário da postagem: 03 de agosto de 2022