O alvo tem um amplo mercado, área de aplicação e grande desenvolvimento no futuro.Para ajudá-lo a entender melhor as funções do alvo, a seguir o engenheiro RSM apresentará brevemente os principais requisitos funcionais do alvo.
Pureza: a pureza é um dos principais indicadores funcionais do alvo, pois a pureza do alvo tem grande impacto na função do filme.Contudo, na aplicação prática, os requisitos de pureza do alvo também são diferentes.Por exemplo, com o rápido desenvolvimento da indústria de microeletrônica, o tamanho do wafer de silício é expandido de 6 “para 8” para 12 “, e a largura da fiação é reduzida de 0,5um para 0,25um, 0,18um ou mesmo 0,13um.Anteriormente, 99,995% da pureza alvo pode atender aos requisitos do processo de 0,35umic, enquanto a preparação de linhas de 0,18um requer 99,999% ou mesmo 99,9999% da pureza alvo.
Conteúdo de impurezas: impurezas nos sólidos alvo e oxigênio e vapor de água nos poros são as principais fontes de poluição dos filmes depositados.Alvos para finalidades diferentes têm requisitos diferentes para diferentes conteúdos de impurezas.Por exemplo, alvos de alumínio puro e ligas de alumínio usados na indústria de semicondutores têm requisitos especiais para teor de metais alcalinos e teor de elementos radioativos.
Densidade: para reduzir os poros no sólido alvo e melhorar a função do filme de pulverização catódica, geralmente é necessário que o alvo tenha alta densidade.A densidade do alvo não afeta apenas a taxa de pulverização catódica, mas também afeta as funções elétricas e ópticas do filme.Quanto maior a densidade alvo, melhor será o funcionamento do filme.Além disso, a densidade e a resistência do alvo são melhoradas para que o alvo possa aceitar melhor o estresse térmico no processo de pulverização catódica.A densidade também é um dos principais indicadores funcionais da meta.
Horário da postagem: 20 de maio de 2022