O alvo tem muitas funções e amplas aplicações em muitos campos.O novo equipamento de pulverização catódica quase usa ímãs poderosos para espiralar os elétrons para acelerar a ionização do argônio ao redor do alvo, o que aumenta a probabilidade de colisão entre o alvo e os íons de argônio,
Aumente a taxa de pulverização catódica.Geralmente, a pulverização catódica DC é usada para revestimento de metal, enquanto a pulverização catódica de comunicação RF é usada para materiais magnéticos cerâmicos não condutores.O princípio básico é usar a descarga luminosa para atingir os íons de argônio (AR) na superfície do alvo no vácuo, e os cátions no plasma acelerarão para correr para a superfície do eletrodo negativo como o material espirrado.Este impacto fará com que o material do alvo voe e se deposite no substrato para formar um filme.
Em geral, existem várias características do revestimento de filme usando o processo de pulverização catódica:
(1) Metal, liga ou isolante podem ser transformados em dados de filme fino.
(2) Sob condições apropriadas de configuração, o filme com a mesma composição pode ser feito a partir de alvos múltiplos e desordenados.
(3) A mistura ou composto de material alvo e moléculas de gás pode ser feita adicionando oxigênio ou outros gases ativos na atmosfera de descarga.
(4) A corrente de entrada alvo e o tempo de pulverização catódica podem ser controlados e é fácil obter espessura de filme de alta precisão.
(5) É benéfico para a produção de outros filmes.
(6) As partículas pulverizadas dificilmente são afetadas pela gravidade e o alvo e o substrato podem ser organizados livremente.
Horário da postagem: 24 de maio de 2022