Sobre a aplicação e o princípio da tecnologia de alvo de pulverização catódica, alguns clientes consultaram a RSM, agora para este problema que mais preocupa, especialistas técnicos compartilham alguns conhecimentos específicos relacionados.
Aplicação alvo de pulverização catódica:
Partículas carregadas (como íons de argônio) bombardeiam uma superfície sólida, fazendo com que partículas superficiais, como átomos, moléculas ou feixes, escapem da superfície do objeto, fenômeno denominado “sputtering”.No revestimento por pulverização catódica por magnetron, os íons positivos gerados pela ionização do argônio são geralmente usados para bombardear o sólido (alvo), e os átomos neutros pulverizados são depositados no substrato (peça de trabalho) para formar uma camada de filme.O revestimento por pulverização catódica Magnetron tem duas características: “baixa temperatura” e “rápido”.
Princípio de pulverização catódica do magnetron:
Um campo magnético ortogonal e um campo elétrico são adicionados entre o pólo alvo pulverizado (cátodo) e o ânodo, e o gás inerte necessário (geralmente gás Ar) é preenchido na câmara de alto vácuo.O ímã permanente forma um campo magnético de 250-350 Gauss na superfície do material alvo e forma um campo eletromagnético ortogonal com o campo elétrico de alta tensão.
Sob a ação do campo elétrico, o gás Ar é ionizado em íons positivos e elétrons, e há uma certa alta pressão negativa no alvo, de modo que os elétrons emitidos do pólo alvo são afetados pelo campo magnético e pela probabilidade de ionização do trabalho o gás aumenta.Um plasma de alta densidade é formado perto do cátodo, e os íons Ar aceleram para a superfície alvo sob a ação da força de Lorentz e bombardeiam a superfície alvo em alta velocidade, de modo que os átomos pulverizados no alvo escapam da superfície alvo com alta energia cinética e voar para o substrato para formar um filme de acordo com o princípio da conversão de momento.
A pulverização catódica por magnetron é geralmente dividida em dois tipos: pulverização catódica DC e pulverização catódica RF.O princípio do equipamento de pulverização catódica DC é simples e a taxa é rápida ao pulverizar metal.O uso de pulverização catódica de RF é mais extenso, além da pulverização catódica de materiais condutores, mas também da pulverização catódica de materiais não condutores, mas também da preparação de pulverização catódica reativa de óxidos, nitretos e carbonetos e outros materiais compostos.Se a frequência de RF aumentar, torna-se pulverização catódica de plasma de microondas.Atualmente, a pulverização catódica de plasma por micro-ondas do tipo ressonância cíclotron eletrônica (ECR) é comumente usada.
Horário da postagem: 01/08/2022