Alguns clientes perguntaram sobre alvos de pulverização catódica de silício.Agora, colegas do Departamento de Tecnologia da RSM analisarão os alvos de pulverização catódica de silício para você.
O alvo de pulverização catódica de silício é produzido pela pulverização catódica de metal a partir de um lingote de silício.O alvo pode ser fabricado por vários processos e métodos, incluindo galvanoplastia, pulverização catódica e deposição de vapor.As modalidades preferidas proporcionam ainda processos adicionais de limpeza e gravação para alcançar as condições de superfície desejadas.O alvo produzido é altamente reflexivo, com rugosidade inferior a 500 angstroms e velocidade de queima relativamente rápida.O filme preparado pelo alvo de silício possui baixo número de partículas.
O alvo de pulverização catódica de silício é usado para depositar filmes finos em materiais à base de silício.Eles são comumente usados em aplicações de display, semicondutores, ópticas, comunicação óptica e revestimento de vidro.Eles também são adequados para gravar componentes de alta tecnologia.Os alvos de pulverização catódica de silício tipo N podem ser usados para diferentes propósitos.É aplicável a muitos campos, incluindo eletrônica, células solares, semicondutores e displays.
O alvo de pulverização catódica de silício é um acessório de pulverização catódica usado para depositar materiais na superfície.Normalmente, consiste em átomos de silício.O processo de pulverização catódica requer quantidade precisa de material, o que pode ser um grande desafio.Usar equipamento de pulverização catódica ideal é a única maneira de fabricar componentes à base de silício.É importante notar que o alvo de pulverização catódica de silício não é utilizado no processo de pulverização catódica.
Horário da postagem: 24 de outubro de 2022