Principais propriedades do material alvo de pulverização catódica

Devemos estar muito familiarizados com o alvo agora, agora o mercado-alvo também está aumentando, a seguir está qual é o principal desempenho do alvo de pulverização catódica compartilhado pelo editor da RSM

　　A pureza

A pureza do material alvo é um dos principais índices de desempenho, pois a pureza do material alvo tem grande influência no desempenho do filme fino.No entanto, na aplicação prática, os requisitos de pureza dos materiais alvo não são os mesmos.Por exemplo, com o rápido desenvolvimento da indústria de microeletrônica, o tamanho do chip de silício foi desenvolvido de 6 “, 8” para 12 ″, e a largura da fiação foi reduzida de 0,5um para 0,25um, 0,18um ou mesmo 0,13um.Anteriormente, a pureza do material alvo de 99,995% pode atender aos requisitos do processo de 0,35umIC.A pureza do material alvo é de 99,999% ou mesmo 99,9999% para a preparação de linhas de 0,18um.

　　Conteúdo de impurezas

As impurezas no sólido alvo e o oxigênio e o vapor de água nos poros são as principais fontes de poluição da deposição do filme.Materiais alvo para diferentes finalidades têm requisitos diferentes para diferentes conteúdos de impurezas.Por exemplo, alvos de alumínio puro e ligas de alumínio usados ​​na indústria de semicondutores têm requisitos especiais para o conteúdo de metais alcalinos e elementos radioativos.

　　A densidade

Para reduzir a porosidade no sólido alvo e melhorar o desempenho do filme de pulverização catódica, geralmente é necessária uma alta densidade do alvo.A densidade do alvo afeta não apenas a taxa de pulverização catódica, mas também as propriedades elétricas e ópticas do filme.Quanto maior a densidade alvo, melhor será o desempenho do filme.Além disso, aumentar a densidade e a resistência do alvo faz com que ele resista melhor ao estresse térmico no processo de pulverização catódica.A densidade também é um dos principais índices de desempenho da meta.

　　Tamanho de grão e distribuição de tamanho de grão

O alvo geralmente é policristalino com tamanho de grão variando de micrômetro a milímetro.Para o mesmo alvo, a taxa de pulverização catódica do alvo com grãos pequenos é mais rápida do que a do alvo com grãos grandes.A distribuição de espessura dos filmes depositados por pulverização catódica com menor diferença de tamanho de grão (distribuição uniforme) é mais uniforme.