Ricos materiais especiais Co., Ltd.fornece alvos de pulverização catódica de zircônio de alta pureza com a maior densidade possível e os menores tamanhos médios de grãos possíveis para uso em semicondutores, exibição de deposição química de vapor (CVD) e deposição física de vapor (PVD) e aplicações ópticas.Nossos alvos de pulverização catódica padrão para filmes finos estão disponíveis monobloco ou colados com dimensões e configurações de alvos planares de até 820 mm com locais de perfuração e rosqueamento, chanfro, ranhuras e suporte projetados para funcionar tanto com dispositivos de pulverização catódica mais antigos quanto com os mais recentes equipamentos de processo. como revestimento de grandes áreas para energia solar ou células de combustível e aplicações flip-chip.Alvos de tamanho de pesquisa também são produzidos, bem como tamanhos e ligas personalizados.Todos os alvos são analisados utilizando as melhores técnicas demonstradas, incluindo Fluorescência de Raios X (XRF).
Horário da postagem: 03 de maio de 2023