A meta tem muitos efeitos e o espaço de desenvolvimento do mercado é grande.É muito útil em muitos campos.Quase todos os novos equipamentos de pulverização catódica usam ímãs poderosos para espiralar elétrons para acelerar a ionização do argônio ao redor do alvo, resultando em um aumento na probabilidade de colisão entre o alvo e os íons de argônio.Agora vamos dar uma olhada no papel do alvo de pulverização catódica no revestimento a vácuo.
Melhore a taxa de pulverização catódica.Geralmente, a pulverização catódica DC é usada para revestimento de metal, enquanto a pulverização catódica RF AC é usada para materiais magnéticos cerâmicos não condutores.O princípio fundamental é usar a descarga luminosa para atingir os íons de argônio (AR) na superfície do alvo no vácuo, e os cátions no plasma acelerarão para correr para a superfície do eletrodo negativo como o material espirrado.Este impacto fará com que o material do alvo voe e se deposite no substrato para formar um filme.
De modo geral, existem várias características do revestimento de filme pelo processo de pulverização catódica: (1) metal, liga ou isolante podem ser transformados em dados de filme.
(2) Sob condições apropriadas de configuração, o filme com a mesma composição pode ser feito a partir de alvos múltiplos e desordenados.
(3) A mistura ou composto de material alvo e moléculas de gás pode ser produzida pela adição de oxigênio ou outros gases ativos na atmosfera de descarga.
(4) A corrente de entrada alvo e o tempo de pulverização catódica podem ser controlados e é fácil obter espessura de filme de alta precisão.
(5) Comparado com outros processos, é propício à produção de filmes uniformes de grandes áreas.
(6) As partículas pulverizadas quase não são afetadas pela gravidade e as posições do alvo e do substrato podem ser organizadas livremente.
Horário da postagem: 17 de maio de 2022