Diferença entre alvo de galvanoplastia e alvo de pulverização catódica

Com a melhoria dos padrões de vida das pessoas e o desenvolvimento contínuo da ciência e da tecnologia, as pessoas têm requisitos cada vez mais elevados para o desempenho de produtos de revestimento decorativo resistentes ao desgaste, à corrosão e a altas temperaturas.É claro que o revestimento também pode embelezar a cor desses objetos.Além disso, qual é a diferença entre o tratamento do alvo de galvanoplastia e do alvo de pulverização catódica?Deixe que especialistas do Departamento de Tecnologia da RSM expliquem para você.

　　Alvo de galvanoplastia

O princípio da galvanoplastia é consistente com o do refino eletrolítico do cobre.Na galvanoplastia, o eletrólito contendo os íons metálicos da camada de galvanização é geralmente usado para preparar a solução de galvanização;Imergir o produto metálico a ser revestido na solução de revestimento e conectá-lo ao eletrodo negativo da fonte de alimentação CC como cátodo;O metal revestido é usado como ânodo e conectado ao eletrodo positivo da fonte de alimentação CC.Quando a corrente CC de baixa tensão é aplicada, o metal do ânodo se dissolve na solução e se torna um cátion e se move para o cátodo.Esses íons obtêm elétrons no cátodo e são reduzidos a metal, que é recoberto pelos produtos metálicos a serem revestidos.

　　Alvo de pulverização catódica

O princípio é principalmente usar descarga luminosa para bombardear íons de argônio na superfície do alvo, e os átomos do alvo são ejetados e depositados na superfície do substrato para formar uma película fina.As propriedades e uniformidade dos filmes pulverizados são melhores do que as dos filmes depositados por vapor, mas a velocidade de deposição é muito mais lenta do que a dos filmes depositados por vapor.O novo equipamento de pulverização catódica quase usa ímãs fortes para espiralar elétrons para acelerar a ionização do argônio ao redor do alvo, o que aumenta a probabilidade de colisão entre o alvo e os íons de argônio e melhora a taxa de pulverização catódica.A maioria dos filmes de revestimento de metal são sputtering DC, enquanto os materiais magnéticos cerâmicos não condutores são sputtering RF AC.O princípio básico é usar descarga luminosa no vácuo para bombardear a superfície do alvo com íons de argônio.Os cátions no plasma acelerarão para chegar à superfície negativa do eletrodo como o material pulverizado.Este bombardeio fará com que o material alvo voe e se deposite no substrato para formar uma película fina.

　　Critérios de seleção de materiais alvo

(1) O alvo deve ter boa resistência mecânica e estabilidade química após a formação do filme;

(2) O material do filme para o filme de pulverização catódica reativa deve ser fácil de formar um filme composto com o gás de reação;

(3) O alvo e o substrato devem ser firmemente montados, caso contrário, o material do filme com boa força de ligação com o substrato deve ser adotado, e um filme inferior deve ser pulverizado primeiro e, em seguida, a camada de filme necessária deve ser preparada;

(4) Partindo da premissa de atender aos requisitos de desempenho do filme, quanto menor for a diferença entre o coeficiente de expansão térmica do alvo e do substrato, melhor, de modo a reduzir a influência do estresse térmico do filme pulverizado;

(5) De acordo com os requisitos de aplicação e desempenho do filme, o alvo utilizado deve atender aos requisitos técnicos de pureza, teor de impurezas, uniformidade dos componentes, precisão de usinagem, etc.