Silicida de tungstênio

O siliceto de tungstênio WSi2 é usado como material de choque elétrico em microeletrônica, desvio em fios de polissilício, revestimento antioxidação e revestimento de fio de resistência.O siliceto de tungstênio é utilizado como material de contato em microeletrônica, com resistividade de 60-80μΩcm.É formado a 1000°C.Geralmente é usado como derivação para linhas de polissilício para aumentar sua condutividade e aumentar a velocidade do sinal.A camada de siliceto de tungstênio pode ser preparada por deposição química de vapor, como deposição de vapor.Use monosilano ou diclorossilano e hexafluoreto de tungstênio como gás de matéria-prima.O filme depositado não é estequiométrico e requer recozimento para ser transformado em uma forma estequiométrica mais condutora.

O siliceto de tungstênio pode substituir o filme de tungstênio anterior.O siliceto de tungstênio também é usado como camada de barreira entre o silício e outros metais.

O siliceto de tungstênio também é muito valioso em sistemas microeletromecânicos, entre os quais o siliceto de tungstênio é usado principalmente como filme fino para a fabricação de microcircuitos.Para este propósito, o filme de siliceto de tungstênio pode ser gravado a plasma usando, por exemplo, siliceto.

A Rich Special Materials é especializada na fabricação de alvos de pulverização catódica e pode produzir materiais de pulverização catódica de siliceto de tungstênio de acordo com as especificações dos clientes.Para maiores informações entre em contato conosco.